Nel presente lavoro si descrive una procedura di modifica superficiale di film di grafene ossido con silsesquiossani poliedrici oligomerici (POSS) funzionalizzati con gruppi amminici in cui la deposizione dei POSS avviene per evaporazione e successiva condensazione sul film di grafene ossido. Il materiale ibrido ottenuto con la procedura sperimentale descritta ha mostrato una fotorisposta elettrica se esposto alla luce visibile.
MODIFICA DI FILM DI GRAFENE OSSIDO TRAMITE DEPOSIZIONE DI SILSESQUIOSSANI POLIEDRICI OLIGOMERICI
BITTOLO BON, SILVIA;VALENTINI, LUCA;KENNY, Jose Maria
2012
Abstract
Nel presente lavoro si descrive una procedura di modifica superficiale di film di grafene ossido con silsesquiossani poliedrici oligomerici (POSS) funzionalizzati con gruppi amminici in cui la deposizione dei POSS avviene per evaporazione e successiva condensazione sul film di grafene ossido. Il materiale ibrido ottenuto con la procedura sperimentale descritta ha mostrato una fotorisposta elettrica se esposto alla luce visibile.File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.
