Contact Resistivity Measurements on n+ (and p+)Si/Pd(Ni, Ti and Ta) Silicide Structures / Finetti, M.; Guerri, S.; Negrini, P.; Scorzoni, Andrea; Suni, I.. - STAMPA. - (1984). ((Intervento presentato al convegno Sixth International Conference on Thin Films tenutosi a Stockolm nel August 13–17, 1984.
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Titolo: | Contact Resistivity Measurements on n+ (and p+)Si/Pd(Ni, Ti and Ta) Silicide Structures |
Autori: | |
Data di pubblicazione: | 1984 |
Handle: | http://hdl.handle.net/11391/923266 |
Appare nelle tipologie: | 4.2 Abstract in Atti di convegno |
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