Ion Implanted TiN Films Acting as Diffusion Barriers on As+ Doped Silicon Shallow Junctions / Armigliato, A.; Finetti, M.; Guerri, S.; Scorzoni, Andrea; Sabato, G.. - STAMPA. - (1985). ((Intervento presentato al convegno International Conference on Metallurgical Coatings tenutosi a Los Angeles, CA, USA nel April 15–19.
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Titolo: | Ion Implanted TiN Films Acting as Diffusion Barriers on As+ Doped Silicon Shallow Junctions |
Autori: | |
Data di pubblicazione: | 1985 |
Handle: | http://hdl.handle.net/11391/923330 |
ISBN: | 0883184842 9780883184844 |
Appare nelle tipologie: | 4.1 Contributo in Atti di convegno |
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